Using CMP Model for 45nm/32nm BEOL Process and Design Evaluations

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2010-07, Vol.MA2010-02 (21), p.1455-1455
Hauptverfasser:	Economikos, Laertis, Bao, Jerry, Low, Kia, Wei-Tsu, Tseng, Matusiewicz, Gerald
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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