Incorporating Shewanella Onedensis MR-1 in Silica Films Derived by Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2010-02, Vol.MA2010-01 (6), p.417-417
Hauptverfasser: Roy, Jared N., Lau, Carolin, Ista, Linnea, Atanassov, Plamen, Luckarift, Heather, Johnson, Glenn R.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2151-2043
2151-2035
DOI:10.1149/MA2010-01/6/417