A Combined Experimental with Computational Study of Precursor Stability and ALD Growth Mechanism in Tantalum Nitride Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2010-02, Vol.MA2010-01 (21), p.1123-1123
Hauptverfasser:	Pullumbi, Pluton, Correia Anacleto, Anthony, Cany-Canian, David, Ko, Changhee, Zauner, Andy, Gatineau, Julien, Hugon, Marie-Christine
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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