Optimization of Shallow Junctions Achieved by Cluster Ion Implants and Excimer Laser Annealing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2009-07, Vol.MA2009-02 (31), p.2362-2362
Hauptverfasser: Krull, Wade, Sekar, Karuppanan, Sebatier, Clement, Rack, Simon
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2151-2043
2151-2035
DOI:10.1149/MA2009-02/31/2362