Schottky Barrier Height Engineering on NiSiGe/SiGe Contacts

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2008-08, Vol.MA2008-02 (37), p.2408-2408
Hauptverfasser:	Tan, Cheng Cheh D., Chua, Chee Tee, Chi, Dongzhi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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