MOS Capacitor Evaluation of Deep States at the Interfacial Grain Boundary in (110/100) Bonded Si
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Veröffentlicht in: | Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2008-08, Vol.MA2008-02 (33), p.2191-2191 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 2151-2043 2151-2035 |
DOI: | 10.1149/MA2008-02/33/2191 |