MOS Capacitor Evaluation of Deep States at the Interfacial Grain Boundary in (110/100) Bonded Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2008-08, Vol.MA2008-02 (33), p.2191-2191
Hauptverfasser: Yu, Liya, Lu, Jinggang, Wagener, Magnus, Yu, Xuegong, Rozgonyi, George
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2151-2043
2151-2035
DOI:10.1149/MA2008-02/33/2191