The Effects of Deposition Parameters and Annealing Treatments on the Structure of Si-Rich Silicon Nitride and Oxynitride Thin Films

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2007-09, Vol.MA2007-02 (21), p.1176-1176
Hauptverfasser:	Roschuk, Tyler, Wojcik, Jacek, Zalloum, Othman, Mascher, P.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!