Three Dimensional Compositional Characterization of High-K Gate Dielectrics with LEAP Atom Probe Microscopy

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2007-03, Vol.MA2007-01 (14), p.693-693
Hauptverfasser: Ulfig, Robert M., Thompson, Kieth, Alvis, Roger, Bunton, Joeseph
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2151-2043
2151-2035
DOI:10.1149/MA2007-01/14/693