Ultra-Shallow Junctions Formed by Co-Implantation and Sub-Melt Laser Annealing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2006-06, Vol.MA2006-02 (20), p.1007-1007
Hauptverfasser:	Felch, Susan B., Falepin, Annelies, Severi, Simone, Augendre, Emmanuel, Noda, Taiji, Parihar, Vijay, Nouri, Faran, Hoffmann, Tom, Pawlak, Bartek, Eyben, Pierre, Vandervorst, Wilfried, Thirupapuliyur, Sunderraj, Schreutelkamp, Robert
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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