Selective Chemical Etching of Si Substrate using Colloidal Crystal as Mask

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2006-06, Vol.MA2006-02 (1), p.62-62
Hauptverfasser:	Uchibori, Kota, Ono, Sachiko, Asoh, Hidetaka
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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