Role of Ce 3+ Ions in Achieving High Silicon Nitride Polish Rates

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ECS journal of solid state science and technology 2017, Vol.6 (12), p.P898-P903
Hauptverfasser:	Alety, Sridevi R., V. Sagi, Kaushik, Babu, S. V.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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