Low Temperature Deposition of WN x C y Diffusion Barriers Using WN(NEt 2 ) 3 as a Single-Source Precursor

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	ECS journal of solid state science and technology 2015, Vol.4 (1), p.N3180-N3187
Hauptverfasser:	O’Donohue, C. T., McClain, K. R., Koley, A., Revelli, J. C., McElwee-White, L., Anderson, T. J.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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