Effect of NH4OH Concentration on Surface Qualities of a Silicon Wafer after Final-Touch Polishing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2011, Vol.158 (6), p.H641
Hauptverfasser:	Hwang, Hee-Sub, Park, Jin-Hyung, Choi, Eun-Suck, Ahn, Jin-Woo, Park, Jea-Gun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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