Growth Kinetics and Oxidation Mechanism of ALD TiN Thin Films Monitored by In Situ Spectroscopic Ellipsometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2011, Vol.158 (3), p.H214
Hauptverfasser:	Van Bui, H., Groenland, A. W., Aarnink, A. A. I., Wolters, R. A. M., Schmitz, J., Kovalgin, A. Y.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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