Atomic Layer Deposition of Ni Thin Films and Application to Area-Selective Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2011, Vol.158 (1), p.D1
Hauptverfasser:	Kim, Woo-Hee, Lee, Han-Bo-Ram, Heo, Kwang, Lee, Young Kuk, Chung, Taek-Mo, Kim, Chang Gyoun, Hong, Seunghun, Heo, Jong, Kim, Hyungjun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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