Nonvolatile Memory Effects of NiO Layers Embedded in Al[sub 2]O[sub 3] High-k Dielectrics Using Atomic Layer Deposition

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Electrochemical and solid-state letters 2010, Vol.13 (6), p.H209
Hauptverfasser:	Cho, Wontae, Lee, Sun Sook, Chung, Taek-Mo, Kim, Chang Gyoun, An, Ki-Seok, Ahn, Jae-Pyoung, Lee, Jun-Young, Lee, Jong-Won, Hwang, Jin-Ha
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!