Degradation of Atomic Surface Flatness of SiO[sub 2] Thermally Grown on a Si Terrace

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2009, Vol.156 (12), p.G201
Hauptverfasser: Yamabe, K., Ohsawa, K., Hayashi, Y., Hasunuma, R.
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.3236631