The Annihilation of Threading Dislocations in the Germanium Epitaxially Grown within the Silicon Nanoscale Trenches

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2009, Vol.156 (9), p.H703
Hauptverfasser:	Luo, Guang-Li, Huang, Shih-Chiang, Ko, Chih-Hsin, Wann, Clement H., Chung, Cheng-Ting, Han, Zong-You, Cheng, Chao-Ching, Chang, Chun-Yen, Lin, Hau-Yu, Chien, Chao-Hsin
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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