Presence and Resistance to Wet Etching of Silicon Oxycarbides at the SiO[sub 2]/SiC Interface

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Electrochemical and solid-state letters 2008, Vol.11 (9), p.H258
Hauptverfasser:	Corre^a, Silma A., Radtke, Cláudio, Soares, Gabriel V., Baumvol, Israel J. R., Krug, Cristiano, Stedile, Fernanda C.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!