Film and Device Characteristics of Sputter-Deposited Hafnium Zirconate Gate Dielectric

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2008, Vol.155 (5), p.G121
1. Verfasser:	Hegde, Rama I.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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