Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of Conductive Hafnium Nitride Using Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium for CMOS Gate Electrode Applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2008, Vol.155 (3), p.H196
Hauptverfasser: Consiglio, Steven, Zeng, Wanxue, Berliner, Nathaniel, Eisenbraun, Eric T.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.2827995