Detection and Quantification of Surface Nanotopography-Induced Residual Stress Fields in Wafer-Bonded Silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2008, Vol.155 (1), p.H36
Hauptverfasser: Horn, Gavin, Chu, Yong S., Zhong, Yuncheng, Mackin, Thomas J., Lesniak, Jon R., Reiniger, Daniel
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.2799880