Study of Thermal Stability of HfO[sub x]N[sub y]∕Ge Capacitors Using Postdeposition Annealing and NH[sub 3] Plasma Pretreatment

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2007, Vol.154 (7), p.G155
Hauptverfasser:	Cheng, Chao-Ching, Chien, Chao-Hsin, Luo, Guang-Li, Yang, Chun-Hui, Kuo, Mei-Ling, Lin, Je-Hung, Tseng, Chih-Kuo, Chang, Chun-Yen
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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