Pore Sealing by NH[sub 3] Plasma Treatment of Porous Low Dielectric Constant Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2007, Vol.154 (4), p.G85
Hauptverfasser:	Peng, Hua-Gen, Chi, Dong-Zhi, Wang, Wei-De, Li, Jing-Hui, Zeng, Kai-Yang, Vallery, Richard S., Frieze, William E., Skalsey, Mark A., Gidley, David W., Yee, Albert F.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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