Measurement of the Retention of Fluoride by Silicon and Silicon Dioxide Surfaces

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1967, Vol.114 (8), p.867
Hauptverfasser:	Larrabee, G. B., Heinen, K. G., Harrell, S. A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!