Discussion of “Activation Energies in the Chemical Etching of Semiconductors in HNO[sub 3]-HF-CH[sub 3]COOH” [A. F. Bogenschütz, W. Krusemask, K. H. Löcherer, and W. Mussinger (pp. 970–973, Vol. 114, No. 9)]

Discussion of “Activation Energies in the Chemical Etching of Semiconductors in HNO[sub 3]-HF-CH[sub 3]COOH” [A. F. Bogenschütz, W. Krusemask, K. H. Löcherer, and W. Mussinger (pp. 970–973, Vol. 114, No. 9)]

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1968, Vol.115 (6), p.677
Hauptverfasser: Schwartz, B., Lawley, K. L.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.2411395