1.5 S-Butyl 1.5 N-Butyl Bismuth and 1.5-Butyl 1.5-Isopropyl Bismuth as new Liquid Bismuth Precursors for SBT Thin Film Deposition

In this study, we have tested tributyl bismuth and, additionally, 1.5-butyl 1.5-isopropyl bismuth precursor in an atomic vapor deposition (AVD) system for SBT deposition. The Sr0.8-1Bi2-2.4Ta2O9 (SBT) thin films were deposited in a Tricent®-CVD reactor (AIXTRON AG) on Ir-coated 150 mm silicon (100)...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	Lisker, Marco, Silinskas, Mindaugas, Matichyn, Serhiy, Lorenz, V., Edelmann, F. T., Burte, Edmund
Format:	Tagungsbericht
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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