Method for Determining the Metallurgical Layer Thickness of Epitaxially Deposited Silicon from SiH[sub 4] down to 0.5 [micro sign]m

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1973, Vol.120 (5), p.699
Hauptverfasser:	Eversteyn, F. C., Heuvel, G. J. P. M. van den
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!