Effect of Buffer Layer for HfO[sub 2] Gate Dielectrics Grown by Remote Plasma Atomic Layer Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2007, Vol.154 (2), p.H97
Hauptverfasser:	Kim, Seokhoon, Woo, Sanghyun, Hong, Hyungseok, Kim, Hyungchul, Jeon, Hyeongtag, Bae, Choelhwyi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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