Hydrogen Evolution from Atomically Flat Si(111) Surfaces Exposed to 40% NH[sub 4]F, Oxygen-Free Water, or Wet Gas

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2006, Vol.153 (12), p.C854
Hauptverfasser: Sawada, Yuuki, Tsujino, Kazuya, Matsumura, Michio
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.2360767