Adsorption of TiCl4, SiH4, and HCl and Si(100) : application to TiSi2 chemical vapor deposition and Si etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1993-06, Vol.140 (6), p.1786-1793
Hauptverfasser:	MENDICINO, M. A, SEEBAUER, E. G
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry Exact sciences and technology General and physical chemistry Solid-gas interface Surface physical chemistry
Online-Zugang:	Volltext
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