Formation of Contacts in a Planarized SiO2 / Si3 N 4 / SiO2 Dielectric Structure

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1992-09, Vol.139 (9), p.2613-2617
Hauptverfasser:	Riley, Paul E., Young, Konrad K., Liu, Charles C.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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