Resolution of silicon wafer temperature measurement by in situ ellipsometry in a rapid thermal processor

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1993-09, Vol.140 (9), p.2673-2678
Hauptverfasser:	SAMPSON, R. K, MASSOUD, H. Z
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!