Test Methods for Measuring Bulk Copper and Nickel in Heavily Doped p-Type Silicon Wafers

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2006, Vol.153 (6), p.G566
Hauptverfasser: Fabry, Laszlo, Hoelzl, Robert, Andrukhiv, Andre, Matsumoto, Kei, Qiu, Joann, Koveshnikov, Sergei, Goldstein, Michael, Grabau, Ann, Horie, Hiroshi, Takeda, Ryuji
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.2186799