Al Coverage of Surface Steps at SiO2 Insulated Polycrystalline Si Boundaries: Al Evaporation in Vacuum and Low Pressure Ar

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1979-01, Vol.126 (8), p.1335-1338
Hauptverfasser:	Silvestri, V. J., Rideout, V. L., Maniscalco, V.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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