Deposition of Plasma Silicon Oxide Thin Films in a Production Planar Reactor

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1979-06, Vol.126 (6), p.930-934
1. Verfasser:	Hollahan, John R.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!