Comparison of Nitrided HfO[sub 2] Films Deposited in O[sub 2] and N[sub 2]O by Direct Liquid Injection CVD

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2006, Vol.153 (1), p.F1
Hauptverfasser: Luo, Qian, Dragomir-Cernatescu, Iuliana, Snyder, Robert L., Rees, Will S., Hess, Dennis W.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
DOI:10.1149/1.2128119