Comparison of Aluminum Etch Rates in Carbon Tetrachloride and Boron Trichloride Plasmas

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1981-04, Vol.128 (4), p.851-855
Hauptverfasser:	Tokunaga, K., Redeker, F. C., Danner, D. A., Hess, D. W.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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