Plasma Etching of Silicon and Silicon Dioxide with Hydrogen Fluoride Mixtures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1982-01, Vol.129 (8), p.1770-1772
Hauptverfasser:	Smolinsky, G., Mayer, T. M., Truesdale, E. A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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