Temperature Dependence of InP and GaAs Etching in a Chlorine Plasma

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1982-01, Vol.129 (11), p.2533-2537
Hauptverfasser:	Donnelly, V. M., Flamm, D. L., Tu, C. W., Ibbotson, D. E.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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