The fabrication of CMOS structures with increased immunity to latchup using the two-step epitaxial process

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1985-12, Vol.132 (12), p.3057-3059
Hauptverfasser:	JASTRZEBKI, L, CORBOY, J. F, SOYDAN, R, PAGLIARO, R. JR, MAGEE, C
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Integrated circuits Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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