Growth and Physical Properties of LPCVD Polycrystalline SiO x Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1986-09, Vol.133 (9), p.1880-1886
Hauptverfasser:	Widmer, A. E., Harbeke, G., Krausbauer, L., Steigmeier, E. F.
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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