Epitaxial lateral overgrowth of silicon over steps of thick SiO2

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1986-06, Vol.133 (6), p.1274-1275
Hauptverfasser: ZINGG, R. P, NEUDECK, G. W, HEFFLINGER, B, LIU, S. T
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2108852