The Plasma Etching of Polysilicon with CF 3Cl / Argon Discharges: I . Parametric Modeling and Impedance Analysis

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1986-11, Vol.133 (11), p.2315-2325
Hauptverfasser:	Allen, Kenneth D., Sawin, Herbert H., Mocella, Michael T., Jenkins, Mary W.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!