Deep UV Photoresist Containing Ortho‐Nitrobenzylsilylether Structure in the Main Chain

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1987-09, Vol.134 (9), p.2275-2280
Hauptverfasser:	Hayase, Shuzi, Onishi, Yasunobu, Horiguchi, Rumiko
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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