Properties of Chemical Vapor Deposited Tungsten Silicide Films Using Reaction of WF 6 and Si2 H 6

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1987-05, Vol.134 (5), p.1220-1224
Hauptverfasser:	Shioya, Yoshimi, Ikegami, Kaoru, Kobayashi, Ikuro, Maeda, Mamoru
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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