Study of bias-dependent etching of Si in aqueous KOH

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1987-02, Vol.134 (2), p.404-409
Hauptverfasser: PALIK, E. D, GLEMBOCKI, O. J, HEARD, I. JR
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2100468