Trench etches in silicon with controllable sidewall angles

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1988-08, Vol.135 (8), p.2058-2064
Hauptverfasser: CARLILE, R. N, LIANG, V. C, PALUSINSKI, O. A, SMADI, M. M
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2096209