The effect of phosphorus doping on the direct current leakage of anodic oxide films on tantalum

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1990-08, Vol.137 (8), p.2528-2530
Hauptverfasser: TRIPP, T. B, FOLEY, K. B
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2086981