Analysis of Nonuniformities in the Plasma Etching of Silicon with CF 4 / O 2

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1990-03, Vol.137 (3), p.954-960
Hauptverfasser:	Kao, Alan S., Stenger, Harvey G.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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